IB-19540CP / IB-19550CCP
| シリーズ | IB-19540CP（標準仕様モデル） | IB-19550CCP（冷却仕様モデル） |
|---|---|---|
| 本体のサイズ (W)x(D)x(H)mm |
本体：587.2×802.5×429.3 ダイアフラムポンプ：140×264×141 | 本体：692×802.5×527.5 ダイアフラムポンプ：140×264×141 |
| 重さ | 本体：約69kg ダイアフラムポンプ：約4.4kg | 本体：約74kg ダイアフラムポンプ：約4.4kg |
| 電源 | 単相AC100～240V 50/60Hz 許容入力電圧変動±10V 設備定格15A以上 | |
| イオンエネルギー | 2～10keV | |
| ミリングスピード | 1,200μm/h以上*1 700μm/h以上*1（大気非曝露機能搭載時*2） |
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| 試料スイング機能 | ±30°自動スイングモード / 任意角度設定モード | |
| 自動加工開始モード | ○ | |
| 自動冷却開始モード 自動常温復帰モード |
- | ○ |
| 試料ステージ冷却到達温度 | - | -120℃以下 |
| 冷却温度設定範囲 | - | -120～0℃ |
| -100℃到達時間 | - | 75分*3 |
| 冷却保持時間 | - | 8時間以上 |
| 予備冷却機能 | - | ○ |
| 大気非曝露機能 | ○（オプション：トランスファーベッセルシステム IB-11740TVS） | |
| 間欠加工モード | イオンビーム照射時間と停止時間を設定可能（ON：1～999秒、OFF：1～999秒） | |
| 仕上げ加工モード | 自動的に仕上げ加工条件に切り換え | |
| 広域断面ミリングモード | 最大加工幅：8mm（オプション：広域加工ホルダー IB-11730LMH） | |
| 広域平面ミリングモード | ○（オプション：大型試料回転ホルダー IB-11550LSRH） | |
| 最大搭載試料サイズ（断面） | 11mm（幅）×8mm（長さ）×3mm（厚さ）（標準試料ホルダー） 25mm（幅）×15mm（長さ）×10mm（厚さ）（オプション：広域加工ホルダー IB-11730LMH） |
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| 最大搭載試料サイズ（平面） | 40mm（直径）×15mm（厚さ）（オプション：大型試料回転ホルダー IB-11550LSRH） | |
| 試料移動範囲 | X軸：±6mm、Y軸：±2.5mm | |
| 操作パネル | タッチパネル | |
| 加工位置合わせ方法 | 位置合わせカメラまたは別置きの光学顕微鏡下 | |
| 加工位置合わせ倍率 | 約×70（ディスプレー上） | |
| 加工観察用カメラ倍率 | 約×20～×100（ディスプレー上）（オプション：IB-14530MCAM） | |
| プリセット機能 | ○ | |
| 遠隔操作機能 | ○*4 | |
| 希望小売価格 （税抜） |
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