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和研薬株式会社

ID: K04108
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日本電子 / 日本電子

断面試料作製装置 IB-19520CCP 冷却クロスセクションポリッシャTM

加工時に試料を液体窒素冷却する事によりイオンビームによる熱ダメージを軽減させる事が出来ます

IB-19520CCP

加工時に試料を液体窒素冷却する事によりイオンビームによる熱ダメージを軽減させる事が出来ます。
冷却保持時間も長く、液体窒素の消費量を抑えた構造になっています。
液体窒素を入れたまま、短時間で試料の冷却、室温戻し、取り外しが可能です。
大気非曝露環境下で、加工から観察までを行う為の搬送機構が付いています。

関連製品
IB-10500HMS クロスセクションポリッシャTM ハイスループットミリングシステム
世界最速クラスのイオンミリングスピードを実現!

断面試料作製装置クロスセクションポリッシャ「IB-19530CP、IB-19520CCP」に新開発イオンソースを採用した「IB-10500HMSハイスループットミリングシステム」を開発しました。
HMS装着により、断面ミリングレート、1.2mm/hを実現しました。(従来比2.4倍)
さらに大型回転ホルダの使用で幅20mmの平面ミリングも可能になりました。

仕様
シリーズ IB-19520CCP
本体のサイズ
(W)x(D)x(H)mm
本体:690×720×530
ロータリーポンプ:150×427×230
重さ 本体:約75kg
ロータリーポンプ:約16kg
電源 -
イオン加速電圧 2~8kV
ミリングスピード 500μm/h以上 (加速電圧8kV) *1
試料スイング機能*2 ±30°自動スイング
自動加工開始モード
自動冷却加工開始モード /
自動室温復帰モード
試料ステージ冷却到達温度 -120°C以下
冷却温度設定範囲 -120~0°C
試料冷却-100°C到達時間 60分以内
試料冷却保持時間 8時間以上 *3
大気非曝露機能
間欠加工モード イオンビーム照射時間と停止時間を設定可能(ON: 1~999秒、OFF: 1~999秒)
仕上げ加工モード 自動的に加工条件切り替え
広域断面ミリングモード*4 最大加工幅:8mm(オプション: 広域加工ホルダー IB-11730LMH)
最大搭載試料サイズ
断面ミリング
11mm (幅)×8mm (長さ)×3mm (厚さ) (標準付属試料ホルダー)
25mm (幅)×15mm (長さ)×10mm (厚さ)(オプション: 広域加工ホルダー B-11730LMH)
最大搭載試料サイズ
平面ミリング
40mm (直径)×15mm (厚さ)(オプション: 大形試料回転ホルダーIB-11550LSRH)
試料移動範囲 X軸: ±6mm、 Y軸: ±2.5mm
操作法 タッチパネル、6.5型ディスプレー
加工位置合わせ法 カメラにより試料ステージ上をモニター*5。 光学顕微鏡下でも加工位置調整可能
位置合わせ用カメラ倍率 約×70(6.5型ディスプレー上)
加工観察用カメラ倍率 約×20 ~ ×100(6.5型ディスプレー上)
外部モニター出力*6 位置合わせ用カメラと加工観察用カメラを切り替えて外部モニターに表示可能(EC-10020VST取り付け時)
プリセット機能 加工条件(加速電圧、アルゴンガス流量、加工時間、間欠加工)を4組プリセット
希望小売価格
(税抜)
お問い合わせ
*1: 2時間の平均値、Si換算、エッジ距離100µm
*2: 特許:第4557130号
*3: 設定温度が高い程、冷却保持時間は長くなります。
*4: 冷却機能と組み合わせて使用可能です。
*5: 特許:第4208658号
*6: EC-10020VSTを装着すると、外部モニターにカメラ画面を出力することができます。
外部モニターはお客様にてご用意ください。

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